太阳能电池片(100平米太阳能板多少钱)

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  • 来源:天成钢结构

太阳能电池科普系列——流程图

太阳能电池片工艺流程:

纹理化(INTEX)扩散(DIFF)后清洁(磨边/PSG)去除)抗反射镀膜(PEVD)屏幕和打印机)测试仪分类器(TESTER SORTER)包装。

现对太阳能电池片部分环节做简单介绍:

一、制绒

纹理化的目的是在硅片表面形成纹理表面,以降低电池的反射率。不均匀的纹理表面会增加二次反射,改变光路和入射模式。一般情况下,用碱处理单晶可以得到金字塔形绒面革;用酸处理多晶体可以得到虫洞状的不规则绒面革。处理方法与单一多晶性质的主要区别。

工艺流程:洗槽、碱洗槽、洗槽、酸洗槽、洗槽、烘干槽。

一般来说,硅被认为不与HF和硝酸反应(硅的表面将被钝化)。当它存在于两种混合酸的体系中时,硅和混合溶液之间的反应是连续的。

二、扩散

扩散是为了使心脏和P-N结为细胞,POCl3是目前磷扩散最流行的选择。POCl3是液态磷源,液态磷源扩散具有生产效率高、稳定性好、PN结均匀光滑、扩散层表面好等优点。

POCl3在高于600.PCl的温度下分解生成五氯化磷(5P2O5)和五氧化二磷(PCl5)对硅片表面有腐蚀作用。当氧气O2存在时,PCl5会分解成P2O5并释放出氯气,于是氮气扩散,同时引入一定流量的氧气P2O5在扩散温度下与硅反应生成二氧化硅和磷原子,生成的P2O5沉积在硅片表面继续与硅反应生成SiO2和磷原子。硅片表面形成磷-硅玻璃(PSG),磷原子扩散到硅中,,.制备N半导体

三、刻蚀

在扩散过程中,采用背对背的单面扩散,磷原子不可避免地在硅片的侧边和背边扩散。当阳光照射时,聚集在P-N结前面的光生电子将沿着磷在边缘扩散的区域流向P-N结的背面,从而形成短路路径。短路通道相当于降低并联电阻。刻蚀工艺是去除硅片边缘的磷,从而避免P-N结短路,降低并联电阻。

湿法刻蚀工艺流程:上晶圆刻蚀槽(H2SO4 HNO3 HF)水洗碱槽(KOH)水洗HF槽水洗下晶圆

硝酸反应氧化生成二氧化硅,氟化氢去除二氧化硅。蚀刻碱浴的作用是抛光未完成的表面,使电池片光滑;碱罐的主要溶液是KOH;H2SO4用于使硅片在生产线上漂浮和流动,不参与反应。

干法刻蚀是用等离子体刻蚀薄膜。当气体以等离子体的形式存在时,一方面,等离子体中气体的化学活性会变得相对较强,通过选择合适的气体,硅片可以更快地反应,实现刻蚀;另一方面,电场可以用来引导和加速等离子体,使等离子体具有一定的能量。轰击硅片表面时,将硅片材料的原子打掉,通过物理能量转移,可以达到刻蚀的目的。

四、PECVD

等离子体化学气相沉积。太阳光在硅表面的反射损失率高达35%。抗反射膜可以提高电池的太阳能吸收,有助于提高光生电流,进而提高转换效率。另一方面,膜中氢对电池表面的钝化降低了发射极结的表面复合率,降低了暗电流,增加了开路电压,提高了光电转换效率。h能与硅中的缺陷或杂质发生反应,从而将禁带中的能带转移到价带或导带中。

在真空环境和480摄氏度的温度下,通过传导石墨舟在硅片表面涂覆SixNy薄膜。

五、丝网印刷

一般来说是收集电流制造太阳能电池用电极,第一背银电极,第二背铝背场印刷烘干;第三前银电极印刷主要监控印刷后的湿重和二次网格线的宽度。如果第二遍的湿重太大,浆料会被浪费,同时在进入高温区之前可能没有完全干燥,甚至其中的所有有机物都不会被排出,从而整个铝浆料层不会转化为金属铝。此外,过大的湿重可能会导致电池板烧结后弯曲。如果湿重过小,所有铝浆都会与硅形成熔化区,并在后续烧结过程中被消耗掉,但从横向导电性或可焊性来看,合金区不适合作为背面金属接触,另外还可能出现鼓包等不良外观。如果第三栅极线的宽度太大,单元的光接收面积将会更小,效率将会降低。

印刷方法:物理印刷和干燥

六、烧结

烧结是将印制在电池表面的电极高温烧结,使电极与硅片本身形成欧姆接触,提高电池的开路电压和填充因子,使电极的接触具有电阻特性,达到高转换效率。在烧结过程中,PECVD工艺引入的-H也可以扩散到体内,可以起到很好的体钝化作用。

烧结方法:高温快速烧结

加热方式:红外线加热

烧结是一个集扩散、流动和物理化学反应于一体的过程。Ag通过SiNH扩散到硅中,但无法到达P-N表面,而Ag和Al扩散到背面的硅中。由于在一定温度下需要形成合金,而且Ag与Al、Si之间合金形成的稳定性不同,所以需要设定不同的温度分别实现合金化。

武汉理工大学